镀层结晶细腻致密，分散能力佳；镀液沉积速度快。
用于要求结晶细致的连续镀铜的打底层使用，特别适用于装备领域防渗碳、渗氮处理。
LD-5101M 900～1000 ml/L
LD-5101A 5～10 ml/L
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